Thetametrisis膜厚儀FR-Mic 微米級薄膜表征
膜厚儀 FR-Mic 是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案，可以將 光斑縮小到幾個微米，進而分析微小區域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺專 用計算機控 制的 XY 工作臺，使其快 速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特 性 。也可以搭配自動平臺測量 400x400mm 大小樣品。
Thetametrisis利用 FR-Mic，通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區域薄膜厚度，厚度映射，光學常數，反射率，折射率及消光系數進行測量。
【相關應用】
高校 & 研究所實驗室
半導體制造 (氧化物/氮化物， 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)
MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
LEDs, VCSELs 多層膜測量應用
數據存儲
陽極處理氧化膜
曲面基底的硬化涂層
聚合物膜層, 粘合劑.
生 物醫學(聚對二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
OEM或客制化應用
【特點】
實時光譜測量
薄膜厚度，光學特性，非均勻性測量， 厚度映射
使用集成 USB 高品質彩色攝像機進行成像 (所視即所測)
【技術參數】
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型號 |
UV/VIS |
UV/NIR-EXT |
UV/NIR-HR |
DUV/NIR |
VIS/NIR |
DVIS/NIR |
NIR |
NIR-N2 |
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光譜波長范圍(nm) |
200–850 |
200–1020 |
200-1100 |
200–1700 |
370–1020 |
370–1700 |
900–1700 |
900-1050 |
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光譜儀像素 |
3648 |
3648 |
3648 |
3648 & 512 |
3648 |
3648 & 512 |
512 |
3648 |
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膜厚測量范圍 |
5X- VIS/NIR |
4nm-60um |
4nm-70um |
4nm-90um |
4nm-150um |
15nm-90um |
15nm-150um |
100nm-150um |
4um-1mm(SiO2) |
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10X- UV/VIS/NIR |
4nm-50um |
4nm-60um |
4nm-80um |
4nm-130um |
15nm-80um |
15nm-130um |
100nm-130um |
4um-400um(Si) |
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15X- UV/NIR |
4nm-40um |
4nm-50um |
4nm-50um |
4nm-120um |
- |
- |
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20X- UV/VIS/NIR |
4nm-25um |
4nm-30um |
4nm-30um |
4nm-50um |
15nm-30um |
15nm-50um |
100nm-50um |
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40X- UV/NIR |
4nm-4um |
4nm-4um |
4nm-5um |
4nm-6um |
- |
- |
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50X- VIS/NIR |
- |
- |
- |
- |
15nm-5um |
15nm-5um |
100nm-5um |
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測量n&k蕞小厚度 |
50nm |
50nm |
50nm |
50nm |
100nm |
100nm |
500nm |
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準度 3. |
0.1% or 1nm |
0.2% or 2nm |
50nm or 0.2% |
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精度 4.. |
0.02nm |
0.02nm |
5nm |
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重覆性 5. |
0.05nm |
0.05nm |
5nm |
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光源 |
氘燈&鹵素燈(internal) |
鹵素燈(internal)10000 小時 (MTBF) |
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材料數據庫 |
>650內建材料數據庫 |
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*測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關。
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物鏡 |
光斑尺寸(μm) |
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500μm孔徑 |
250μm孔徑 |
100μm孔徑 |
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5x |
100μm |
50μm |
20μm |
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10x |
50μm |
25μm |
10μm |
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20x |
25μm |
17μm |
5μm |
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50x |
10μm |
5μm |
2μm |
【工作原理】
規格如有更改，恕不另行通知
測量結果與校準的光譜橢偏儀和 XRD 相比較,
連續 15 天測量的標準方差平均值。樣品：(1um SiO2 on Si.) ,
100 次厚度測量的標準方差，樣品：1um SiO2 on Si.
超過 15 天的標準偏差日平均值樣品：1um SiO2 on Si。
使用反射式物鏡
以上資料來自Thetametrisis，如果有需要更加詳細的信息，請聯系我們獲取。
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